Wagenpfeil, M., Ziegler, T., Schneider, J., Fieguth, A., Murra, M., Schulte, D., Althueser, L., Huhmann, C., Weinheimer, C., Michel, T., Anton, G., Adhikari, G., Al Kharusi, S., Angelico, E., Arnquist, I., Badhrees, I., Bane, J., Beck, D., Belov, V., Bhatta, T., Bolotnikov, A., Breur, P., Brodsky, J., Brown, E., Brunner, T., Caden, E., Cao, G., Chambers, C., Chana, B., Charlebois, S., Chernyak, D., Chiu, M., Cleveland, B., Craycraft, A., Daniels, T., Darroch, L., Der Mesrobian-Kabakian, A., de St. Croix, A., Deslandes, K., DeVoe, R., Di Vacri, M., Dolinski, M., Echevers, J., Elbeltagi, M., Fabris, L., Fairbank, D., Fairbank, W., Farine, J., Ferrara, S., Feyzbakhsh, S., Gallina, G., Gautam, P., Giacomini, G., Gingras, C., Goeldi, D., Gorham, A., Gornea, R., Gratta, G., Hansen, E., Hardy, C., Harouaka, K., Heffner, M., Hoppe, E., House, A., Hughes, M., Iverson, A., Jamil, A., Jewell, M., Karelin, A., Kaufman, L., Krücken, R., Kuchenkov, A., Kumar, K., Lan, Y., Larson, A., Leach, K., Leonard, D., Li, G., Li, S., Li, Z., Licciardi, C., Lindsay, R., MacLellan, R., Martel-Dion, P., Massacret, N., McElroy, T., Medina Peregrina, M., Mong, B., Moore, D., Murray, K., Nattress, J., Natzke, C., Newby, R., Nolet, F., Nusair, O., Nzobadila Ondze, J., Odgers, K., Odian, A., Orrell, J., Ortega, G., Ostrovskiy, I., Overman, C., Parent, S., Piepke, A., Pocar, A., Pratte, J., Raguzin, E., Ramonnye, G., Rasiwala, H., Rescia, S., Retière, F., Richard, C., Richman, M., Ringuette, J., Robinson, A., Rossignol, T., Rowson, P., Roy, N., Saldanha, R., Sangiorgio, S., Soma, A., Spadoni, F., Stekhanov, V., Stiegler, T., Tarka, M., Thibado, S., Tidball, A., Todd, J., Totev, T., Triambak, S., Tsang, R., Vachon, F., Veeraraghavan, V., Viel, S., Vivo-Vilches, C., Walent, M., Wichoski, U., Worcester, M., Wu, S., Xia, Q., Yan, W., Yang, L., & Zeldovich, O. (2021). reflectivity of VUV-sensitive silicon photomultipliers in liquid Xenon. Journal of instrumentation, 16, . http://access.bl.uk/ark:/81055/vdc_100136724239.0x00002a