Die Atomlagenabscheidung von Cobaltphosphid zum Zwecke einer effizienten Wasserspaltung. (2nd August 2020) - Zhang, Haojie; Hagen, Dirk J.; Li, Xiaopeng; Graff, Andreas; Heyroth, Frank; Fuhrmann, Bodo; Kostanovskiy, Ilya; Schweizer, Stefan L.; Caddeo, Francesco; Maijenburg, A. Wouter; Parkin, Stuart; Wehrspohn, Ralf B.
Abstract: Wir berichten von der erstmaligen erfolgreichen Herstellung von Übergangsmetallphosphiden (TMP) mittels Atomlagenabscheidung (ALD). Ultradünne Co‐P Filme wurden mit PH3 ‐Plasma als der Phosphorquelle und einem zusätzlichen H2 ‐Plasma‐Schritt, der zum Entfernen von überschüssigem P aus den wachsenden Schichten dient, abgeschieden. Der optimierte ALD‐Prozess folgte dem selbstsättigenden Schicht‐für‐Schicht‐Wachstumsverhalten und die abgeschiedenen Co‐P‐Filme zeichneten sich durch hohe Reinheit und Glätte aus. Die mittels ALD abgeschiedenen Co‐P‐Filme zeigten bessere elektrochemische und photoelektrochemische Aktivitäten für die Wasserstoffentwicklungsreaktion als gleichartige Co‐P‐Filme, die mit der traditionellen Postphosphorisierungsmethode hergestellt wurden. Außerdem zeigen wir die Abscheidung in periodische Furchen. Dies demonstriert das breite und vielversprechende Anwendungspotential dieses ALD‐Prozesses für die gleichmäßige Beschichtung komplexer dreidimensionaler (3D) Strukturen mit TMP‐Filmen. Abstract : Cobaltphosphid wurde erstmals durch Atomlagenabscheidung hergestellt. Der optimierte Prozess nutzt einen zusätzlichen H2 ‐Plasma‐Schritt, um überschüssiges Phosphor zu entfernen. Die frisch abgeschiedenen Co‐P‐Filme weisen eine signifikant höhere Aktivität in der elektrochemischen und photoelektrochemischen Wasserstoffentwicklung auf als durch klassische Methoden herstellte Filme.