Nanoskalige Oberflächenstrukturierung mittels Atomlagenabscheidung. (5th November 2015)

• Record Type: Journal Article
• Authors: Sobel, Nicolas; Hess, Christian
• Is Part Of: Angewandte Chemie. Volume 127:Number 50(2015)
• Page Start: 15226
• Page End: 15233
• Publication Date: 2015-11-05
• Subjects: Atomlagenabscheidung -- Nanoskala -- Oberflächenchemie -- Poröse Materialien -- Strukturierung; Chemistry -- Periodicals; 540
• DOI: 10.1002/ange.201503680
• Languages: English
• ISSNs: 0044-8249

Abstract

Abstract: Das Interesse an der kontrollierten Strukturierung von Oberflächen ergibt sich aus einer Vielzahl von Bereichen, welche die mikroelektronische Bauelementherstellung, optische Geräte, Biosensorik, (Elektro‐, Photo‐)Katalyse, Batterien, Solarzellen, Brennstoffzellen und Sorption einschließen. Ein einzigartiges Merkmal der Atomlagenabscheidung (ALD) besteht darin, dass konforme, gleichmäßige Beschichtungen auf beliebig geformten Materialien mit kontrollierten atomaren Schichtdicken erhalten werden können. In diesem Kurzaufsatz diskutieren wir das Potenzial der ALD zur nanoskaligen Strukturierung von Oberflächen und betonen dabei die vielseitigen Anwendungen im Hinblick auf die Strukturierung planarer und pulverförmiger Substrate. Berücksichtigt man die jüngsten Fortschritte bei der Anwendung der ALD auf poröse Substrate, ist nun sogar die nanoskalige Strukturierung von Materialien mit großer spezifischer Oberfläche realisierbar. Dies ermöglicht neuartige Anwendungen, beispielsweise auf den Gebieten der Katalyse und der regenerativen Energien. Abstract : Chemie in abgeschiedener Lage : Die Atomlagenabscheidung (ALD) hat großes Potenzial für die nanoskalige Oberflächenstrukturierung. Dieser Aufsatz stellt die Anwendungen der ALD zur Strukturierung planarer und poröser Materialien vor, inklusive der nanoskaligen Strukturierung von Materialien mit großer spezifischer Oberflächen. Dies eröffnet neuartige Anwendungen, z. B. in den Bereichen Katalyse und Energie.